第376章 極紫外光刻機(jī)
蘇揚(yáng)看了半秒劉元龍,道“這些設(shè)備,的確是最新的半導(dǎo)體核心設(shè)備,尤其是光刻機(jī)?!?/br> 說著,指著光刻機(jī)道“這臺光刻機(jī)里面的激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設(shè)置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術(shù)產(chǎn)品?!?/br> 蘇揚(yáng)繼續(xù)道“另外,掩膜臺的運(yùn)動控制精度達(dá)到納米級,物鏡、量臺、曝光臺、內(nèi)部封閉框架、減振器等物,也都是目前最先進(jìn)的產(chǎn)品?!?/br> “當(dāng)然,最主要的還是這臺光刻機(jī)的光源,并非是目前國際國內(nèi)流行的深紫外光?!?/br> “所采用的光是135n的軟x射線,也就是極紫外光作為光源。” 蘇揚(yáng)的話音落下。 現(xiàn)場陡然變得一片寂靜。 四名高冷的保鏢們不知所云,作為退役的軍人,他們對這些科技玩意兒一無所知,完全聽得云里霧里。 但看到半導(dǎo)體公司的人,一個個都瞠目結(jié)舌,傻了似的,又覺得boss的話不明覺厲。 短暫的寂靜之后,便是一片嘩然,安正國等七人議論紛紛。 “這……” “采用的是135n的極紫外光?” “怎么可能,我前兩天才剛剛看的新聞,尼康公司的光刻機(jī),也才在準(zhǔn)備進(jìn)發(fā)32n半導(dǎo)體工藝,而光源依舊用的是193n的深紫外光啊!” “是啊,曝光波長一下子降到135n,這豈不是意味著……它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32n以下的特征尺寸了?。。 ?/br> “蘇總,您別不是在逗我們開心啊,現(xiàn)在全球范圍內(nèi),絕對沒有任何一家半導(dǎo)體公司,能造出這樣的設(shè)備!” “蘇總,這到底是真是假?。 ?/br> 幾名遠(yuǎn)揚(yáng)半導(dǎo)體的高層,一個個都紅著眼眶,把目光不斷在蘇揚(yáng)和光刻機(jī)的身上徘徊。 作為半導(dǎo)體制造業(yè)皇冠上的明珠,光刻機(jī)的意義不言而喻。 芯片在生產(chǎn)中需要進(jìn)行2030次的光刻,耗時占到ic生產(chǎn)環(huán)節(jié)的50左右,占芯片生產(chǎn)成本的三分之一。 通常意義上來說,只要解決光刻機(jī)的問題,那么芯片制造的工程,就完結(jié)了一半。 因此,也不怪幾個搞半導(dǎo)體的家伙,像是癡·漢一樣看著他。 蘇揚(yáng)笑道“行了,你們也別這樣看我,是真是假,我嘴上說了也沒用,召集人員進(jìn)行一次實(shí)驗(yàn),不就一目了然了?安總,工廠內(nèi)應(yīng)該是有光刻膠和硅片的吧?” 安正國一愣,連忙道“有,都儲存著呢,我馬上找人來進(jìn)行實(shí)驗(yàn)?!?/br> 說著,安正國立刻召集人手,搬來相應(yīng)的半導(dǎo)體材料。 半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)主要分為ic設(shè)計、ic制造、ic封測三大環(huán)節(jié)。 所謂ic,就是集成電路的英文簡寫。 ic設(shè)計是高端技術(shù),也是ter等公司,能屹立于半導(dǎo)體行業(yè)巔峰最重要的因素之一。 主要根據(jù)芯片的設(shè)計目的,進(jìn)行邏輯設(shè)計和規(guī)則制定,并根據(jù)設(shè)計圖制作掩模,以供后續(xù)光刻步驟使用。 而ic制造,就是半導(dǎo)體芯片的制造了。 一般,要實(shí)現(xiàn)芯片電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,并實(shí)現(xiàn)預(yù)定的芯片功能。 包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學(xué)機(jī)械研磨等步驟。 至于ic封測,就是完成對芯片的封裝和性能、功能測試,是產(chǎn)品交付前的最后工序。 ic設(shè)計就不提了,蘇揚(yáng)有蘋果a6處理器的技術(shù),其中就包括了32n芯片的設(shè)計。 另外,商城掛著的ter酷睿系列,也有45n——14n芯片的工藝技術(shù)。 而在ic制造中,光刻又是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。 其中的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn),在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上。 這一過程,目前只能通過光刻,才能最有效地實(shí)現(xiàn)。 所以,光刻的工藝水平,往往直接決定了芯片的制程水平和性能水平。 安正國找來技術(shù)人員和材料,在蘇揚(yáng)的指導(dǎo)下,這些專業(yè)生產(chǎn)芯片的員工,初步了解到這臺光刻機(jī)的使用流程。 光刻的原理,實(shí)際上非常簡單。 在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠,再用光線透過掩模照射在硅片表面。 被光線照射到的光刻膠,會發(fā)生反應(yīng)。 此后,再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠,就實(shí)現(xiàn)了電路圖從掩模到硅片的轉(zhuǎn)移。 這和華夏古代的印刷術(shù),實(shí)際上有一些相似之處,但光刻技術(shù)卻比印刷術(shù)難了千萬倍。 一般的光刻步驟,有氣相成底膜、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、曝光、顯影、堅(jiān)膜。 接著,就是進(jìn)行檢測,主要是顯影檢測,讓合規(guī)的硅片進(jìn)入后續(xù)的蝕刻流程。 所謂蝕刻,便是通過化學(xué)或物理的方法,有選擇地從硅片表面,除去不需要材料的過程。 完成之后,就能通過特定溶劑,洗去硅片表面殘余的光刻膠了。 當(dāng)然,這是最簡易的光刻步驟,在實(shí)際生產(chǎn)制造中,比這復(fù)雜了上百倍。 從開始光刻,到最后洗去殘余的光刻膠,幾個步驟,就足足花了三個多小時。 當(dāng)然,這里面也有一些員工剛剛接觸新設(shè)備,cao作不順手的因素。 當(dāng)時間來到下午四點(diǎn)半的時候。 車間內(nèi),一片驚喜和歡騰的景象。 “出來了,居然真的做出來了!” “60n的電路圖,居然真的被我們轉(zhuǎn)移到了硅片上?!?/br> “不可思議啊!全華夏能做60n芯片的企業(yè),不超過三家,而且全是在18年下半年才剛剛突破的技術(shù),還是在實(shí)驗(yàn)室里!做到量產(chǎn)的話,得到今年年底,甚至是明年年初去了。” “是啊,而我們現(xiàn)在,卻擁有了一臺可以量產(chǎn)60n芯片的光刻機(jī),如果cao作熟練了,速度提上去,再進(jìn)行交替光刻,一天至少可以造上數(shù)百片12寸的圓晶??!” “這是一個突破,了不起的突破,如果我們把這里發(fā)生的事情,宣布出去,足以震驚整個華夏,乃至是中央都要被驚動!” 華夏在半導(dǎo)體行業(yè),被壓了太多年了。 從上個世紀(jì)以來,就一直跟在西方國家的屁股后面跑,說是向人家乞討技術(shù)也不為過。 雖然60n芯片的量產(chǎn),和45n芯片的量產(chǎn),還有一定的差距。 但是,在工藝水平上,也能證明華夏沒比ter等落后太多了。 這是一個十分漲士氣的突破。 一旁,劉元龍沉聲道“各位,你們難道沒有意識到嗎?剛才我們用的,只是這臺光刻機(jī)最底線的精度!” 這話一出,幾名興奮的家伙,立刻止住了話音,轉(zhuǎn)而張了張嘴巴,眼睛立刻掙得大大的。 “是啊,剛才用的還是最低的精度!” “沒錯,往上一個刻度的話,豈不是意味著……45n甚至32n的芯片也有可能了?” “不對,我之前看過一篇學(xué)術(shù)報告,euv光刻技術(shù)的真正領(lǐng)域,是32n,不,是22n以下的領(lǐng)域!” “22n以下,這……這也太瘋狂了吧?!?/br> “……”